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Marques déposées par la société étrangère Suomen itsenäisyyden juhlarahasto SITRA
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DIARC
Marque renouvelée - Marque en non vigueur

DIARC
Suomen itsenäisyyden juhlarahasto SITRA, société de droit finlandais

Numéro de dépôt :
93498477
Date de dépôt :
27/12/1993
Lieu de dépôt :
I.N.P.I. PARIS
Date d'expiration :
03/11/2013

Présentation de la marque DIARC

Déposée le 27 décembre 1993 par la société étrangère Suomen itsenäisyyden juhlarahasto SITRA auprès de l’Institut National de la Propriété Industrielle (I.N.P.I. PARIS), la marque française « DIARC » a été publiée au Bulletin Officiel de la Propriété Industrielle (BOPI) sous le numéro 1994-06 du 11 février 1994.

Le déposant est la société étrangère Suomen itsenäisyyden juhlarahasto SITRA domicilié(e) Uudenmaankatu 16-20 B,00120 HELSINKI,FINLANDE (dossier no 2252015) - Finlande.

Lors de son dernier renouvellement, il a été fait appel à un mandataire, NOVAGRAAF FRANCE MLA/AC/EF mk96173 domicilié(e) 122 RUE EDOUARD VAILLANT,92593 LEVALLOIS PERRET (dossier no 2252015) - 92593 - France.

La marque DIARC a été enregistrée au Registre National des Marques (RNM) sous le numéro 93498477.

C'est une marque semi-figurative qui a été déposée dans les classes de produits et/ou de services suivants :

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Enregistrée pour une durée de 20 ans, la marque DIARC est expirée depuis le 3 novembre 2013.


Suomen itsenäisyyden juhlarahasto SITRA, société de droit finlandais - Uudenmaankatu 16-20 B,00120 HELSINKI,FINLANDE (dossier no 2252015) - Finlande


NOVAGRAAF FRANCE MLA/AC/EF mk96173 - 122 RUE EDOUARD VAILLANT,92593 LEVALLOIS PERRET (dossier no 2252015) - 92593 - France


Renouvellement sans limitation le 3 novembre 2003 n°2252015 - Publication au BOPI 2003-11-03

Enregistrement sans modification - Publication au BOPI 1994-23

Publication - Publication le 11 févr. 1994 au BOPI 1994-06

Traitement de matériaux.Revêtement de métaux, céramiques et polymères; traitement de métaux, céramiques et polymères au moyen de pellicules de diamant; traitement de métaux, céramiques et polymères au moyen d'un faisceau à plasma pulsé