Accueil marques.expert
/
Marques déposées par la Société par Action Simplifiée (SAS) SiLiMiXT
/
SILIMIXT
Marque renouvelée - Marque en vigueur

SILIMIXT
SiLiMiXT, SAS

Numéro de dépôt :
3860747
Date de dépôt :
21/09/2011
Lieu de dépôt :
I.N.P.I. PARIS
Date d'expiration :
21/09/2031
SILIMIXT de SiLiMiXT

Présentation de la marque SILIMIXT

Déposée le 21 septembre 2011 par la Société par Action Simplifiée (SAS) SiLiMiXT auprès de l’Institut National de la Propriété Industrielle (I.N.P.I. PARIS), la marque française « SILIMIXT » a été publiée au Bulletin Officiel de la Propriété Industrielle (BOPI) sous le numéro 2011-41 du 14 octobre 2011.

Le déposant est la Société par Action Simplifiée (SAS) SiLiMiXT domicilié(e) 4 allée de Chinon, 37270 LARCAY - France et immatriculée sous le numéro RCS 791 864 820 .

Lors de son dernier renouvellement, il a été fait appel à un mandataire, SiLiMiXT, M. Desplobain Sébastien domicilié(e) 4 allée de Chinon, 37270 Larcay - France.

La marque SILIMIXT a été enregistrée au Registre National des Marques (RNM) sous le numéro 3860747.

C'est une marque semi-figurative qui a été déposée dans les classes de produits et/ou de services suivants :

01 09 40 42

Enregistrée pour une durée de 20 ans, la marque SILIMIXT arrivera à expiration en date du 21 septembre 2031.


SiLiMiXT, SAS - 4 allée de Chinon, 37270 LARCAY - France - SIREN 791864820


SiLiMiXT, M. Desplobain Sébastien - 4 allée de Chinon, 37270 Larcay - France


Publication - Publication le 14 oct. 2011 au BOPI 2011-41

Enregistrement avec modification - Publication le 13 janv. 2012 au BOPI 2012-02

Inscription le 22 janvier 2020 - Transmission totale de propriété n°778165 - Publication le 28 févr. 2020 au BOPI 2020-01-22

Renouvellement sans limitation le 23 septembre 2020 n°2760118 - Publication le 25 déc. 2020 au BOPI 2020-09-23

Produits chimiques destinés à l'industrie et aux sciences, à savoir matériaux semi-conducteurs poreux, plaquettes et substrats mixtes en matériaux semi-conducteurs et semi-conducteurs poreux ;

Equipements d'électroérosion et de porosification de matériaux semi-conducteurs ;

Services d'électrogravure et de porosification de matériaux semi-conducteurs ; transformation de matériaux semi-conducteurs ;

Recherche et développement de nouveaux équipements de porosification et de nouveaux procédés de porosification de matériaux semi-conducteurs.