Marque enregistrée - Marque en non vigueur

SCALPEL
LUCENT TECHNOLOGIES INC. (société constituée selon les lois de l'Etat de Delaware, Etats-Unis d'Amérique)

Numéro de dépôt :
97686889
Date de dépôt :
11/07/1997
Lieu de dépôt :
I.N.P.I. PARIS
Date d'expiration :
11/07/2007

Présentation de la marque SCALPEL

Déposée le 11 juillet 1997 par LUCENT TECHNOLOGIES INC. (société constituée selon les lois de l'Etat de Delaware auprès de l’Institut National de la Propriété Industrielle (I.N.P.I. PARIS), la marque française « SCALPEL » a été publiée au Bulletin Officiel de la Propriété Industrielle (BOPI) sous le numéro 1997-33 du 14 août 1997.

Le déposant est LUCENT TECHNOLOGIES INC. (société constituée selon les lois de l'Etat de Delaware, Etats-Unis d'Amérique), domicilié(e) 600 Moutain Avenue Murray Hill, New Jersey 07974 ETATS UNIS D'AMERIQUE - États-Unis.

Lors de son dépôt, il a été fait appel à un mandataire, CABINET FLECHNER - France.

La marque SCALPEL a été enregistrée au Registre National des Marques (RNM) sous le numéro 97686889.

C'est une marque semi-figurative qui a été déposée dans les classes de produits et/ou de services suivants :

09

Enregistrée pour une durée de 10 ans, la marque SCALPEL est expirée depuis le 11 juillet 2007.

LUCENT TECHNOLOGIES INC. (société constituée selon les lois de l'Etat de Delaware a également déposé les autres marques suivantes : LINEAGE , LUFICS , OPTISPEED , WE MAKE COMMUNICATIONS WORK , (Marque figurative) , VOICEWIRE , LUCENT TECHNOLOGIES CLEARTRAC , LIMBO , STYX , FLIPPER


LUCENT TECHNOLOGIES INC. (société constituée selon les lois de l'Etat de Delaware, Etats-Unis d'Amérique) - 600 Moutain Avenue Murray Hill, New Jersey 07974 ETATS UNIS D'AMERIQUE - États-Unis


CABINET FLECHNER - France


Enregistrement sans modification - Publication au BOPI 1997-51

Inscription le 6 avril 2004 - Changement d'adresse n°390070 - Publication au BOPI 2004-04-06

Inscription le 22 octobre 2001 - Transmission totale de propriété n°333186 - Publication au BOPI 2001-10-22

Publication - Publication le 14 août 1997 au BOPI 1997-33

Outil de lithographie par projection d'électrons utilisant un masque de diffusion pour mettre à nu des réserves (résists) dans la fabrication de circuits intégrés