HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC., Société de droit japonais
Numéro de dépôt :
98715697
Date de dépôt :
30/01/1998
Lieu de dépôt :
INPI Paris
Date d'expiration :
30/01/2028
Présentation de la marque ZESTONE
Déposée le 30 janvier 1998 par la société étrangère HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC
auprès de l’Institut National de la Propriété Industrielle (INPI Paris),
la marque française « ZESTONE » a été publiée au Bulletin Officiel de la Propriété Industrielle (BOPI) sous le numéro
1998-10 du 6 mars 1998.
Le déposant est la société étrangère HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC domicilié(e) 15-12, Nishi-shimbashi 2-chome, Minato-ku, TOKYO 1058039 - Japon.
Lors de son dernier renouvellement, il a été fait appel à un mandataire, NOVAGRAAF FRANCE, Mme Tissot Marianne domicilié(e) Bâtiment O2, 2 RUE SARAH BERNHARDT - 92665 - ASNIERES-SUR-SEINE CEDEX - France.
La marque ZESTONE a été enregistrée au Registre National des Marques (RNM) sous le numéro 98715697.
C'est une marque semi-figurative qui a été déposée dans les classes de produits et/ou de services suivants :
HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC., Société de droit japonais - 15-12, Nishi-shimbashi 2-chome, Minato-ku, TOKYO 1058039 - Japon
NOVAGRAAF FRANCE, Mme Tissot Marianne - Bâtiment O2, 2 RUE SARAH BERNHARDT - 92665 - ASNIERES-SUR-SEINE CEDEX - France
Inscription le 8 octobre 2001 - Changement de dénomination n°332086 - Publication au BOPI 2001-10-08
Renouvellement sans limitation le 14 décembre 2007 n°2358192 - Publication au BOPI 2007-12-14
Inscription le 13 mars 2008 - Changement d'adresse n°470629 - Publication au BOPI 2008-03-13
Enregistrement sans modification - Publication au BOPI 1998-28
Publication - Publication le 6 mars 1998 au BOPI 1998-10
Renouvellement sans limitation le 20 décembre 2017 n°2667190 - Publication le 4 mai 2018 au BOPI 2017-12-20
Inscription le 4 mars 2019 - Transmission totale de propriété n°750320 - Publication le 5 avr. 2019 au BOPI 2019-03-04
Appareil de fabrication de semi-conducteurs. Appareil de dépôt chimique en phase vapeur. Appareil de dépôt physique en phase vapeur. Appareil de dépôt physique en phase vapeur. Appareil de diffusion. Appareil d'oxydation. Appareil de recuit. Appareil de traitement thermique. Appareil de gravure. Appareil de lavage. Appareil de réaction épitaxique. Appareil de croissance épitaxique. Appareil d'implantation ionique. Autres appareils et instruments de traitement de tranches de semi-conducteurs et leurs parties constitutives. Appareil de réalisation de films minces composés de semi-conducteurs, de métal, d'isolant. Appareils de fabrication de circuits intégrés. Appareils de fabrication des éléments de semi-conducteurs.
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